표면처리
페이지 정보
작성일 19-08-07 03:35본문
Download : 표면처리1.hwp
순서
1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , FileSize : 24K , 표면처리공학기술레포트 , 양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀
설명
양극처리,도금방지처리,와트욕,크롬도금표준액,헤셀,공학기술,레포트
표면처리
1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , 자료크기 : 24K
1. 헐셀 시험법
2. 와트욕
3. 니켈 도금의 일상 관리
4. 크롬도금 표준액
5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법
6. 걸이
7. 도금방지처리
8. 양극처리
1. 헐셀 시험법 - 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다. ● 석출상태 관리 - 화학 ingredient으로는 얻을수 없는 ingredient - 화학 分析(분석)으로는 시간이 걸리는 ingredient - 상당히 미량이면서 도금에 influence을 주는 ingredient - 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측 ● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력…(drop)
레포트/공학기술
Download : 표면처리1.hwp( 22 )
다.