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1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , FileSize : 24K , 표면처리공학기술레포트 , 양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀
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양극처리,도금방지처리,와트욕,크롬도금표준액,헤셀,공학기술,레포트
표면처리
1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , 자료크기 : 24K
1. 헐셀 시험법
2. 와트욕
3. 니켈 도금의 일상 관리
4. 크롬도금 표준액
5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법
6. 걸이
7. 도금방지처리
8. 양극처리
1. 헐셀 시험법 - 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다. ● 석출상태 관리 - 화학 ingredient으로는 얻을수 없는 ingredient - 화학 分析(분석)으로는 시간이 걸리는 ingredient - 상당히 미량이면서 도금에 influence을 주는 ingredient - 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측 ● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력…(drop)
레포트/공학기술
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다.
