박막재료의 제작과 평가
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또한 ITO의 전기적 characteristic(특성)은 내부 산소 공공에 직접적인 영향을 받으며, ITO에서 Sn이 3at% 미만으로 도핑되어 있을 때는 첨가된 dopant보다 전체 carrier의 농도가 크게 나타나지만 3at% 이상 도핑할 경우 dopont의 농도가 carrier의 농도보다 크게 나타나는 현상…(To be continued )
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박막재료의 제작과 평가
순서
다. 전원을 공급하면 주입된 스퍼터링 가스(Ar)는 음극 쪽에서 방출된 전자와 충돌하여 여기상태의 Ar+로 되고 이 여기된 가스는 음극인 타겟 쪽으로 끌리며 충돌하고 플라즈마가 발생한다.
▒ ITO
ITO는 에 를 고용시켜 제조한 재료로서 가시광선 영역에서는 투광 characteristic(특성)이, 적외선 영역에서는 반사characteristic(특성)이 우수하며 비교적 낮은 전기저항을 갖는 상온에서 안정한 산화물이다. 일반적으로 사용되는 스퍼터링 가스는 Ar을 사용한다. ITO는 결정구조에서 In 자리에 Sn이 치환고용된 형태를 갖고있따 ITO의 전기전도성이 최대화인 적정 의 첨가량은 5~10wt%로 알려져 있으며, 그 이상의 가 첨가되면 의 화합물이 생성되거나 자유전자의 움직임을 막으면서 전기적 characteristic(특성)을 저하시킨다. 전원을 공급하면 주입된 스퍼터링 가스(Ar)는 음극 쪽에서 방출된 전자와 충돌하여 여기상태의 Ar+로 되고 이 여기된 가스는 음극인 타겟 쪽으로 끌리며 충돌하고 플라즈마가 발생한다. 스퍼터 장치는 음극에 타겟을, 양극에 기판을 연결한다.
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박막재료의 제작과 평가
실험결과/재료
박막재료의 제작과 평가
목차
° experiment(실험) 목적
° experiment(실험) 관련 theory
° experiment(실험) 방법
° experiment(실험) 결과
° 결과에 대한 고찰
1. experiment(실험) 목적
ITO에 대한 기본적인 theory 을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 characteristic(특성) 평가를 통해 실제 ITO와의 차이를 비교해보고 고찰하자.
2. experiment(실험) 관련 theory
▒ 스퍼터링
스퍼터링은 스퍼터링 가스를 진공챔너 내로 주입하여 박막으로 입힐 타겟물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 기판에 증착시키는 방법이다. 스퍼터 장치는 음극에 타겟을, 양극에 기판을 연결한다. 절연체와 같은 부도체는 교류 전원을 사용하여 박막을 만드는데, 교류전원은 13.56 ㎒의 주파수를 가지며 이를 RF라 한다. 이러한 교류 전원을 사용하는 스퍼터링 법을 교류스퍼터링(RF sputtering)이라 한다. 절연체와 같은 부도체는 교류 전원을 사용하여 박막을 만드는데, 교류전원은 13.56 ...
박막재료의 제작과 평가
목차
° experiment(실험) 목적
° experiment(실험) 관련 theory
° experiment(실험) 방법
° experiment(실험) 결과
° 결과에 대한 고찰
1. experiment(실험) 목적
ITO에 대한 기본적인 theory 을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 characteristic(특성) 평가를 통해 실제 ITO와의 차이를 비교해보고 고찰하자.
2. experiment(실험) 관련 theory
▒ 스퍼터링
스퍼터링은 스퍼터링 가스를 진공챔너 내로 주입하여 박막으로 입힐 타겟물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 기판에 증착시키는 방법이다. 일반적으로 사용되는 스퍼터링 가스는 Ar을 사용한다.